Установка безмасковой литографии MLC600

ML100 – это настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования для формирования рисунка в слое фоторезиста на пластинах и подложках. Установка использует технологию DMD (Digital Micromirror Device), позволяя уйти от необходимости использования фотошаблонов, что существенно сокращает производственный цикл, а также затраты на производство или исследования. Использование светодиодного источника в установке ML100 позволяет получать идеально гладкие стенки формируемых структур.

Установка безмасковой литографии MLC600

Преимущества установки

  • Компактный дизайн для лабораторного применения
  • Автоматическое совмещение, совмещение по обратной стороне
  • Автоматическая фокусировка в режиме реального времени
  • Высокая скорость экспонирования
Параметр Значение
Область экспонирования 195х195 мм
Толщина пластин/подложек 0,2 – 4 мм
Разрешение ≤0,6 мкм
Точность совмещения ±0.5 мкм
Лазерный источник 375 нм / 405 нм
Скорость экспонирования 300 мм²/мин (при максимальном разрешении)