Кластерная система магнетронного напыления SRN-110

Кластерная система магнетронного напыления с вариативными мишенями модели SRN-110 (до трех 150мм мишеней на одну камеру)
Модель SRN110 - это кластерная система магнетронного напыления с вариативными мишенями с возможностью установки до трех 150мм мишеней на одну камеру.
Ключевые особенности
-
Выдающаяся эффективность расхода мишени благодаря вращению магнетронного катода;
-
Защита от загрязнений благодаря защитным экранам в камере напыления;
-
Удобство замены защитных экранов;
-
Опционально можно установить до 12 магнетронов для нанесения разных материалов;
-
Разумное соотношение занимаемой площади и производительности системы;
-
Высокая повторяемость процесса при заданной равномерности напыления слоёв;
-
Возможность подогрева подложек;
-
Возможность ВЧ-плазменной очистки, травления окислов и напыления за один процесс без выгрузки из камеры.
⠀
Стандартные процессные характеристики
Равномерность по толщине слоя:
- по пластине, от пластины к пластине и от загрузки к загрузке: <± 5% для пластин диаметром 200мм;
Равномерность Rs плёнок при толщине слоя 1000Å для Al и Ti слоёв:
- по пластине, от пластины к пластине и от загрузки к загрузке: <± 5% для пластин диаметром 200мм;
Скорость нанесения плёнок:
- Al : > 1000Å/мин
- Ti : > 1000Å/мин
- SiO2 : > 500Å/мин
Равномерность нагрева поверхности пластины:
<± 3%;
Максимальная температура нагрева пластины:
900°C;
Система нагрева подложек:
Галогеновый нагреватель.
⠀
Опции
-
Вращение подложек;
-
Подъем и опускание подложек на пинах;
-
Нагрев до максимальной температуры 900°C за 15 минут;
-
Время стабилизации: 5 минут;
-
Однородность температуры: <±3% для 200мм пластины.