Модель SRN110 - это кластерная система магнетронного напыления с вариативными мишенями с возможностью установки до трех 150мм мишеней на одну камеру.

​

Ключевые особенности

• Выдающаяся эффективность расхода мишени благодаря вращению магнетронного катода; 

• Защита от загрязнений благодаря защитным экранам в камере напыления;

• Удобство замены защитных экранов;

• Опционально можно установить до 12 магнетронов для нанесения разных материалов;

• Разумное соотношение занимаемой площади и производительности системы; 

• Высокая повторяемость процесса при заданной равномерности напыления слоёв;

• Возможность подогрева подложек;

• Возможность ВЧ-плазменной очистки, травления окислов и напыления за один процесс без выгрузки из камеры.

 ⠀

Стандартные процессные характеристики

​

Равномерность по толщине слоя: 

   - по пластине, от пластины к пластине и от загрузки к загрузке: <± 5% для пластин диаметром 200мм;

Равномерность Rs плёнок при толщине слоя 1000Å для Al и Ti слоёв:

   - по пластине, от пластины к пластине и от загрузки к загрузке: <± 5% для пластин диаметром 200мм;

Скорость нанесения плёнок: 

   - Al : > 1000Å/мин 

   - Ti : > 1000Å/мин

   - SiO2 : > 500Å/мин

Равномерность нагрева поверхности пластины:

<± 3%;

Максимальная температура нагрева пластины:

900°C;

Система нагрева подложек:

Галогеновый нагреватель. 

⠀

Опции

• Вращение подложек;

• Подъем и опускание подложек на пинах;

• Нагрев до максимальной температуры 900°C за 15 минут;

• Время стабилизации: 5 минут;

• Однородность температуры: <±3% для 200мм пластины.​